リソグラフィー(lithography)・・・その2
フォト・レジストは紫外線に当たると感光し、重合して有機溶剤に溶けなくなります。
したがって酸化シリコン膜で取り除きたい所には光が当たらないようにマスクをかけます。
これをシリコン基板と一体にして紫外線を当てます。
ちょうど写真の密着焼に似ています。
感光していない部分を有機溶剤で取り去った後、酸化シリコンだけを溶かす溶液で処理します。
最後に残ったフォト・レジストを除去し、水洗いすれば必要なパターンの酸化シリコン膜がシリコン基板上に得られます。
このほかに1968年ごろから開発が進められてきた電子ビームを用いた電子ビーム・リソグラフィーや最近注目されてきたイオンビーム・リソグラフィーがあります。
イオンビームによる微細パターンの限界は電子ビームより小さいと考えられ、開発研究が行われています。